SUPERSiC^® 은 반도체 산업 분야에서 사용되는 Silicon Carbide 중 하나를 칭하는 POCO 사의 상표입니다.

POCO의 기술력은 바로 경쟁력으로 연결됩니다..

    폭넓은 디자인 능력
    정밀한 가공
    뛰어난 정제 공정
    CVD SiC coating

새로운 대안으로서의 POCO Silicon Carbide   

    POCO Silicon Carbide는 Quartz와 다른 Silicon Carbide의 대체품으로 사용될 수 있습니다.
    수명 면에서 Quartz보다 월등히 우수합니다.
    두 재질 모두 반도체 분야에서 일반적으로 사용되는 wet etching 공정에 강한 내구성을 보이지       만, 고온환경에서는 POCO Silicon Carbide가 훨씬 안정된 성능을 발휘합니다.
    HF, HNO₃, HCl등의 일반적인 세척 방식 이용이 가능합니다.

작업 개선

    POCO Silicon Carbide는 BPSG, TEOS, POCl₃, poly depo, silicon nitride, age oxidation,
      implant anneal/drive-in등과 같은 반도체 공정에 도움이 될 수 있습니다.

    1300°C 정도의 작업 조건에서도 안전합니다.

작업 지속성 향상

    POCO Silicon Carbide의 (CTE Coefficient Thermal Expansion:열팽창계수)가 반도체 분야
      에서 사용되는 film의 CTE와 비슷하기 때문에 film 증착이 용이합니다.

          적은 particle 발생

         줄어든 Downtime

         길어진 Running Cycle

    Etch 공정에 강하기 때문에 치수 변화가 발생하지 않고, 세척 중에 부식이 생기지 않습니다.
      로봇 공학을 통한 clean cycle의 안정화가 가능합니다.

고순도 Silicon Carbide

    POCO Silicon Carbide는 다른 Silicon Carbide의 대체품으로 사용이 가능합니다.
    POCO Silicon Carbide 재질에는 binding, filling, sintering에 필요한 물질들이 들어가지 않은
     Si와C의 화학변량론적으로 1:1 결합만으로 이루어진 특징을 지니고 있습니다.
  폭넓은 디자인 가능성을 통해서 낮은 열용량 확보가 가능합니다.

개선된 공정 control

신뢰도 높은 Die 생산

경비 절감